AG竞猜注册半导体设备系列:刻蚀主赛道有望加速

2022-01-11 02:33 admin

  刻蚀是用化学、物理、化学物理分离的办法有挑选的去除(光刻胶)启齿下方的质料。被刻蚀的质料包罗硅、介质质料、金属质料、光刻胶。刻蚀是与光刻相联络的图形化处置工艺。刻蚀就是操纵光刻胶等质料作为遮掩层,经由过程物理、化学办法将基层材猜中没有被上层遮盖层质料遮盖的处所去掉,从而鄙人层质料上得到与掩膜板图形对应的图形。

  刻蚀装备市场超越 130 亿美圆,是晶圆装备占比最高的市场。 2011 年以来,刻蚀在晶圆装备的占比从 11%逐步提拔到 20%以上, 2017 年起成为环球晶圆装备中占比最高的配备种别,主要性不竭提拔。刻蚀装备市场根本是干法刻蚀装备,2020 年环球干法刻蚀装备市场约 137 亿美圆,此中介质刻蚀(Dielectric Etch)60 亿美圆,导体刻蚀(Conductor Etch)76 亿美圆。刻蚀由外洋龙头主导,海内公司连结快速增加。按照 Gartner 数据,环球刻蚀企业前三大别离是 Lam Research、TEL、AMAT,环球市占率合计 91%。海内刻蚀营业前三大企业别离为中微公司、北方华创、屹唐半导体。按照三方数据,2020 年海内的刻蚀龙头企业中微公司、北方华创的刻蚀营业都获得较高支出增加,并在范围体量逐渐靠近环球前五大厂商。

  海内刻蚀厂商加快导入。 跟踪海内晶圆厂次要招招标数据,刻蚀装备需求工艺种别较多,绝大大都由外洋龙头厂商供给,海内龙头公司北方华创、中微公司、屹唐半导体处于加快导入历程。以长江存储、华虹无锡、华力集成的招招标数据停止阐发,这三家晶圆厂的刻蚀环节上,海内装备产线的国产化率(以机台数目计较)均匀约为 20~30%。

  北方华创 ICP 刻蚀机范畴海内抢先, 累计托付打破 1000 腔, 12 英寸打破28nm 以下制程。 北方华创 2005 年第一台 8 英寸 ICP 刻蚀机在客户端商显,12 英寸刻蚀机在客户端 28nm 完成国产替换, 2020 年 12 月,北方华创 ICP刻蚀机托付打破 1000 腔,标记着国产刻蚀机获得客户普遍承认。

  中微公司刻蚀产物线逐渐成熟,从 CCP 向 ICP 快速开辟。中微公司 CCP刻蚀装备使用于国际一线D NAND晶圆产线及先辈封装消费线,中微公司 ICP 刻蚀装备曾经趋于成熟。 中微公司已有较高装机存量反响台在客户端事情;中微公司的 ICP 装备 Nanova 曾经累计托付 100 台反响腔,在抢先的逻辑芯片、DRAM 和 Nand 厂商产线完成大范围量产。

  屹唐股分刻蚀产物处于国际先辈、海内抢先职位。AG竞猜网址 屹唐股分具有干法刻蚀装备 paradigmE 系列,接纳专有的法拉第屏障电感耦合等离子 (ICP) 源与蚀刻偏置掌握相分离,装备采纳双晶圆反响腔、双反响腔产物平台设想。